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聚焦半导体前道工艺设备研发,思锐智能完成数亿元B轮融资
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2024-03-01 聚焦半导体前道工艺设备研发,思锐智能完成数亿元B轮融资

来源:图虫
本轮融资由上汽集团战略直投、尚颀资本和鼎晖投资联合领投。

近日,青岛四方思锐智能技术有限公司(以下简称“思锐智能”)完成了数亿元B轮融资。本轮融资由上汽集团战略直投、尚颀资本和鼎晖投资联合领投;招商局创投、上海金浦、新鼎资本、创新工场、华控基金、青创投等知名投资者跟投;海松资本、海澳芯科、鑫芯创投、珩创投资、同歌创投等老股东持续加持。

思锐智能将充分利用融资资本的加持,全面加速公司“双主业”布局发展,强化科技创新主体地位,加快关键核心技术攻关,持续提高产品竞争力及技术创新能力,努力创造更多具有自主知识产权的创新成果。完善产品体系布局和产品落地,不断提升产业链供应链韧性和安全水平。

公开信息显示,思锐智能成立于2018年,同年完成对ALD技术发源地——芬兰倍耐克公司100%股权的收购工作。思锐智能整合倍耐克海外前沿技术研发资源,开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作,建立了完善的ALD产品体系,覆盖全球众多头部客户并在众多细分领域取得领先的市场竞争地位。

目前,思锐智能聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售,提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。公司产品包括原子层沉积(ALD)设备及离子注入(IMP)设备,广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。

2022年,思锐智能推出全系列离子注入设备,以高能离子注入机为切入点开展研发,解决国内高端离子注入机”卡脖子“问题,逐步完成硅基及化合物半导体领域全系列机型的布局。

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